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化學真空系統(tǒng)MD 12C NT +AK+EK有非常廣泛地用途，如排氣、蒸發(fā)及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又非常適應(yīng)高真空需求，如用于高沸點溶劑。MD 12C NT 基礎(chǔ)泵配有一個氣鎮(zhèn)閥，在開啟時仍有很好的極限真空，緊湊的設(shè)計下仍有優(yōu)異的性能。

化學真空系統(tǒng)MD 4C NT+AK+EK廣泛應(yīng)用于化學、生物和制藥實驗室的排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。系統(tǒng)可很好地滿足高沸點溶劑的真空需求。主要用于和旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀或真空干燥箱等儀器連用。

VACUUBRAND化學真空系統(tǒng)MD 4C NT VARIO應(yīng)用領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、真空蒸餾、真空干燥、反應(yīng)釜、真空離心濃縮等

化學真空系統(tǒng)MZ 2C NT VARIO，通過調(diào)節(jié)隔膜泵的馬達轉(zhuǎn)速實現(xiàn)精準的真空控制。MZ 2C NT VARIO雙級化學隔膜泵可滿足絕大部分中等真空要求的溶劑。因需調(diào)控的馬達速度控制使得膜片等磨損件的壽命超長。

2mbar變頻化學真空系統(tǒng)PC 3001 VARIO select能控制真空度，以實現(xiàn)良好的工藝過程控制。該泵適用于高沸點溶劑。集成式的VACUU·SELECT真空控制器搭配了簡單易用、基于應(yīng)用程序的用戶界面，內(nèi)嵌了所有常見的實驗室真空應(yīng)用。VACUU·SELECT真空控制器可滿足您所有要求。